产品介绍振动抛光可去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层，消除样品的表面应力，提高样品表面光洁度。对于电子背散射衍射 (EBSD)分析、原子力显微镜（AFM）分析、电镜（SEM）分析等，前序样品制备非常有效。 同时，振动抛光因其优异的机械-化学抛光效果，适合大部分材料的精抛和终抛，尤其适用于软质和韧性材料，如纯钛及钛合金、纯铝及铝合金、纯铜及铜合金、镍基合金、高温合金等。
技术参数- 型号ZDP-300
- 机体形式台式
- 控制方式触摸屏控制
- 抛盘尺寸305mm
- 抛光直径8-50mm（特殊尺寸可定制）
- 主机功率1.5KW
- 频率调节自动
- 电压调节自动
- 电源220V
- 标准配置
- 主机一台
- 精密抛光布一块（主机内）
- 样块辅具一套
- 纳米抛光液一瓶
- 电源线一条
- 备用保险管一只（主机电源插口内）
- 技术文件一份
|
